Prosím čekejte...
Nepřihlášený uživatel
Nacházíte se: VŠCHT PrahaFCHTÚstav anorganické chemie  → Vybavení → Technologie
iduzel: 28795
idvazba: 36672
šablona: stranka
čas: 23.9.2017 02:11:55
verze: 3813
uzivatel:
remoteAPIs:
branch: trunk
Obnovit | RAW

Technologie

Laboratoř MO-CVD 

Zařízení pro depozici oxidových vrstev

Obrázek zařízení MO-CVD pro přípravu oxidových vrstev

Laboratoř disponuje zařízením pro přípravu tenkých vrstev oxidových materiálů metodou MO-CVD (depozice epitaxních vrstev z plynné fáze s využitím organokovových prekurzorů). Zařízení využíváno pro depozici vrstev vysokoteplotních supravodičů na bázi Bi-Sr-Ca-Cu-O a manganitých oxidových perovskitů (systém La-Sr-Mn-O a Bi-Sr-Ca-Mn-O), ZnO (dopovaného magnetickými příměsemi) a NiO.

Popis zařízení

  • Horizontální indukčně vyhřívaný křemenný reaktor. Substráty se umísťují na inconelový nosič
  • Kapalné prekurzory jsou do reaktoru dávkovány hmotovým průtokoměrem a ultrazvukovým rozprašovačem
  • Reaktor je vybaven předehřevem vstupujících prekurzorů pro jejich zplynění
  • Prekurzory jsou používány zejména v podobě b-diketonátů a alkoholátů
  • Jako nosný plyn je používána směs argonu, dusíku a kyslíku regulovaná pomocích hmotových průtokoměrů
  • Tlak v reaktoru je stabilizován v rozsahu 0,01 – 1 bar

Zařízení pro depozici nitridových vrstev

Zařízení je určeno pro přípravu epitaxních vrstev AIIIN nitridů depozicí z organokovových prekurzorů a amoniaku. Depozice je prováděna v horizontálním křemenném reaktoru vybaveném indukčním ohřevem. Zařízení je využíváno zejména pro přípravu epitaxních vrstev GaN dotovaných Mn pro aplikace ve spintronice.

Popis zařízení

  • Horizontální křemenný reaktor s Mo susceptorem
  • Prekurzory prvků v podobě trimethylgallia, trimethylhliníku, trimethylindia a bis(methylcyklopentadienyl) manganu jsou umístěny v nerezových sytičích. Množství prekurzoru dávkované do reaktoru je řízeno teplotou prekurzoru, tlakem a průtokem nosného plynu.
  • Jako prekurzor dusíku je používán amoniak a pro dotovaní vrstev silan. Nosné plyny (dusík, vodík) jsou dávkovány pomocí hmotnostních průtokoměrů
  • Depoziční reaktor je vybaven zdrojem suchého vakua a stabilizací tlaku v rozsahu 50 – 1000 mbar

Laminární box pro manipulaci v bezprašném prostředí


 

Laboratoř uhlíkových nanomateriálů

Zařízení pro depozici uhlíkových nanomateriálů metodou CVD

CVD Reaktor je vybaven odporově vyhřívaným horizontálním křemenným reaktorem. Zařízení je využíváno pro přípravu uhlíkových nanotrubiček a grafenových vrstev. Depozice uhlíkových nanotrubiček je prováděna pomocí kovových katalyzátorů. Depozice grafenu je prováděna na kovových substrátech (Cu.Ni) v křemenném nosiči.

Popis zařízení

  • Depozice je možné provádět při teplotách do 1200 °C a v rozsahu tlaků od 10 Pa do 100 kPa
  • Plyny jsou do reaktoru dávkovány pomocí hmotových průtokoměrů (vodík, metan, amoniak, argon, dusík)
  • Zařízení je možné doplnit diferenčně čerpaným mechanickým manipulátorem pro řízenou manipulaci se vzorkem uvnitř horké zóny reaktoru

Zařízení pro syntézu grafenu termickým rozkladem prekurzorů

Reaktor pro syntézu grafitu exfoliací jeho prekurzorů (oxid grafitu) je vybaven magnetickým manipulátorem pro rychlou manipulaci se vzorkem uvnitř horké zóny reaktoru. Exfoliaci je možné provádět ve vakuu nebo řízené atmosféře.

Popis zařízení

  • Křemenný horizontální reaktor vybavený magnetickým manipulátorem
  • Možnost ohřevu vzorku do teploty 1100°C
  • Exfoliace v řízené atmosféře (vodík, dusík, amoniak. kyslík, chlor)
  • Možnost práce v rozsahu tlaků 0.01 – 1 bar


 

Laboratoř materiálů pro fotoniku

Popis základního vybavení laboratoře

  • Zařízení pro přípravu optických vlnovodů
  • Zařízení pro přípravu optických vlnovodů v elektrickém poli
  • Zařízení na řezání a leštění substrátů


 

Laboratoř keramických materiálů

Laboratoř je vybavena základním technologickým vybavením pro přípravu oxidové i neoxidové keramiky.

Popis základního vybavení laboratoře:

  • Trubkové pece pro syntézy ve vakuu a řízené atmosféře do teploty 1450 °C
  • Muflové pece pro syntézy v pevné fázi a růst krystalů z tavenin do teploty 1750 °C
  • Hydraulický lis a lisovací formy, nástavec pro izostatické lisování
  • Planetární mlýn a ultrazvukový homogenizátor
  • Zařízení spin coating pro přípravu z gelových prekurzorů


 

Glovebox pro práci v inertní atmosféře 

Obrázek Gloveboxu

Glovebox (rukavicový box) s argonovou atmosférou slouží pro základní laboratorní operace v inertní atmosféře, obsahuje velmi nízké koncentrace kyslíku a vody do 0.1 ppm. Díky tomu je možné dlouhodobě pracovat s chemikáliemi, které jsou na vzduchu nestálé (např. oxidují či jsou hygroskopické) Glovebox je vybaven analytickými váhami, hydraulickým lisem, dále také magnetickou míchačkou s ohřevem a vakuovou pumpou pro provádění základních chemických operací.

Aktualizováno: 15.9.2016 20:38, Autor: Ladislav Nádherný

VŠCHT Praha
Technická 5
166 28 Praha 6 – Dejvice
IČO: 60461373
DIČ: CZ60461373

Datová schránka: sp4j9ch

Copyright VŠCHT Praha 2014
Za informace odpovídá Oddělení komunikace, technický správce Výpočetní centrum
zobrazit plnou verzi